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什么是第四代半導體?我國在新半導體材料上取得進展

2023-6-15 10:02:01來源:網(wǎng)絡(luò)作者:
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  • 最近有一些新聞報道說,我國科學家在第四代半導體材料的研究方面取得了重大進展,比如寬帶隙的氧化鎵材料,或者窄帶隙的銻化鎵材料,等等。
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  • 半導體

最近有一些新聞報道說,我國科學家在第四代半導體材料的研究方面取得了重大進展,比如寬帶隙的氧化鎵材料,或者窄帶隙的銻化鎵材料,等等。那么,什么是第四代半導體呢?半導體科技的三大支柱是材料、物理和器件。巧婦難為無米之炊,有了好的材料,才能發(fā)現(xiàn)新的物理現(xiàn)象、研究新的物理規(guī)律,才能制作更新更好的器件。

半導體材料通常都是晶體,構(gòu)成材料的原子在空間中的排列是周期性的,單個原子中的能級就展開為半導體材料中的能帶,包括價帶和導帶。半導體材料有很多分類的方式,比如說,根據(jù)帶隙也就是價帶和導帶之間的能量差,有寬帶隙和窄帶隙的半導體,根據(jù)能帶里電子能量的極大值和極小值的相對位置,有直接帶隙和間接帶隙的半導體。

我們今天說的第四代半導體,主要是按照各種半導體材料在科研和應用中開始發(fā)揮重大作用的先后順序大致劃分出來的。前三代半導體材料的分類有共識,而第四代半導體具體包括哪些材料,還有爭議,但是它們現(xiàn)在吸引了很多科學家和工程技術(shù)人員的關(guān)注,將來有可能在很多應用中發(fā)揮重大作用。鍺和硅是第一代半導體。第一個半導體晶體管就是用鍺單晶做的,但是這種材料的帶隙比較窄,容易受到環(huán)境溫度的影響,而且沒有合適的絕緣層跟它匹配,制作器件的時候就受到很多限制。

后來人們發(fā)現(xiàn),硅是更合適的半導體材料,帶隙比較寬,受溫度的影響小,硅的氧化物二氧化硅是非常好的絕緣層,容易制備而且跟硅匹配得好,所以硅材料成了第一代半導體中的主力軍。硅是制備半導體芯片也就是集成電路的主要材料,但它是間接帶隙半導體,電子跟光的相互作用比較弱,不管是電光轉(zhuǎn)換還是光電轉(zhuǎn)換的效率都比較低,不適合做這方面的器件。為了克服這個困難,就出現(xiàn)了Ⅲ-Ⅴ族的砷化鎵、磷化銦等第二代半導體,它們都是直接帶隙的半導體,吸收光或者發(fā)射光的效率很高,適合于制作光電探測器、發(fā)光二極管乃至半導體激光器等等。

然而,典型的第二代半導體材料的帶隙也比較窄,它們發(fā)出的光是紅光或者紅外光,而在日常照明需要的可見光波段特別是藍綠光波段的效果并不好,直到第三代半導體的代表性材料Ⅲ-Ⅴ族的氮化鎵出現(xiàn)以后,才解決了這個問題。獲得諾貝爾物理學獎的藍光LED,現(xiàn)在應用廣泛的各種白光LED,都是基于寬帶隙的氮化鎵基的半導體材料。第三代半導體通常指的是寬禁帶半導體,除了氮化鎵以外,還有鋁鎵氮、碳化硅,等等,應用也不僅限于照明方面,在涉及大電流和高電壓的開關(guān)方面,第三代半導體的功率器件也大顯身手。

上面說的這三代半導體材料的研究歷史悠久,應用范圍廣闊,當然也還有進一步提高的余地,但是現(xiàn)在已經(jīng)有很多科學家和工程師們把目光轉(zhuǎn)向新的半導體材料,認為它們才是未來發(fā)展的方向,這就是所謂的第四代半導體,其中包括很多不同的材料體系,針對的是不同的應用目標:有的是更窄帶隙的銻化鎵、銦化砷等化合物半導體,瞄準的是更高效率的紅外乃至中紅外的探測和發(fā)光;有的是超寬帶隙的比如說氧化鎵或氮化鋁等材料,針對的是高溫環(huán)境、大電流或大電壓工作條件下的功率器件;還有些是各類低維材料例如碳基的納米材料或者二維原子晶體材料,希望發(fā)現(xiàn)新的物理效應和器件應用。

半導體科學技術(shù)與生產(chǎn)實踐和社會發(fā)展有著密切的聯(lián)系,一方面,半導體科學技術(shù)的發(fā)展?jié)M足了生產(chǎn)實踐的許多需求,但另一方面,社會的發(fā)展反過來又對半導體科學技術(shù)提出了新的更高的要求。前三代半導體材料都是在這種互相促進的過程中應運而生的,正在蓬勃發(fā)展的第四代半導體有可能解決它的前輩們無法解決的問題。這是一個充滿競爭的研究和發(fā)展領(lǐng)域,我國的科技人員也在努力工作,并取得了一些可喜的成果,比如說銻化鎵基的紅外材料和器件,超寬帶隙的氧化鎵單晶及其應用,以及新型二維原子材料方面的許多探索,都非常引人注目。但是,這樣進展是否能夠達到預期的目標,是不是能夠突破我們面臨的卡脖子難題,還需要等待時間的檢驗。讓我們拭目以待,并衷心祝愿我國的科技人員能夠取得更大的進步。

(關(guān)鍵字:半導體)

(責任編輯:01181)
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